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随着科技的发展进步,微电子技术得到了快速发展,电子元器件的集成程度越来越高,给微电子器件的清洗工作带来了很大的挑战,清洗的要求和工艺也越来越复杂,其清洗质量也会直接影响电子元件的质量和使用寿命。据官方统计讯息,目前我国的电子半导体精密清洗化学产品,自给自足率一直处于非常低的状态,因此提高微电子工艺的清洗技术水平、实现本土化的供给,具有十分重要的意义。
集成电路自诞生以来一直遵循摩尔定律的发展规律,即集成度和产品性能每18个月增加一倍。各种半导体新材料和新器件层出不穷。
电子产品清洗工艺简述
电子产品清洗工艺主要有湿法清洗和干法清洗两种。
湿法清洗技术
a. 综合清洗法。综合清洗法是一种综合性比较强的清洗技术,将化学溶剂法、机械清洗法进行有机结合,可以有效清洗表面污染物。(简图供参考)
b. 溶液浸泡法。溶液浸泡法是目前湿法清洗技术中最常用的方法,将硅片放置溶液中进行浸泡,可以有效清除表面污染物。在进行清洗工作时,通常需要进行加热、搅拌等辅助工作,以达到清洗的目的。
c. 化学溶剂清洗法。在利用化学溶剂对微电子器件进行清洗时,其清洗效果取决于溶剂的选择。
干法清洗技术
干法清洗技术与湿法清洗技术相对应,干法清洗技术一般不使用化学溶液来进行清洗。但部分干法清洗技术需要使用少量的溶液,因此,根据其性质划分,又有半干法和全干法两种。
气相清洗法。气相清洗法是半干法的典型代表,在进行清洗工作时需要加入部分溶液,使其与污染物相互作用,从而达到清洗效果。气相清洗法具有广阔的发展前景,尤其是在负压下进行清洗,可有效对电子元件的沟槽和缝隙进行清洗。
等离子清洗法。利用等离子技术进行电子元件清洗,比较简单,不会对环境造成污染,清洗成本也比较低。但这种清洗方法很难去除金属化合物等污染物,并不适合所有清洗工作,因此需要不断加大技术创新,以满足清洗工作的需要。
束流清洗技术。所谓的束流清洗技术就是利用束流状的能量流与污染物相互作用,从而达到清洗效果。常用的束流方式为激光束流、微集射束流等方式。
典型的在线清洗工艺简述
清洗原理
清洗工艺
了解表面活性剂
清洗液浓度的监控
在室温(20℃左右)下,大部分液体的表面张力在20~40达因/厘米范围以内,但也有大于此数的,如水的表面张力为72达因/厘米;理论上,对于同一种液体,温度升高,表面张力降低。常见的化学物质表面张力如下:
液体 | 表面张力 | 色散分量 | 极性分量 |
正己烷 | 18.4 | 18.4 | 0.0 |
正庚烷 | 20.4 | 20.4 | 0.0 |
正辛烷 | 21.8 | 21.8 | 0.0 |
正葵烷 | 23.9 | 23.9 | 0.0 |
正十四烷 | 25.6 | 25.6 | 0.0 |
硝基乙烷 | 31.9 | 27.5 | 4.4 |
硝基甲烷 | 36.8 | 29.8 | 7.0 |
邻苯二甲酸乙酯 22°C | 37.,0 | 30.0 | 7.0 |
二甲基甲酰胺 | 37.1 | 29.0 | 8.1 |
四溴乙烷 | 49.7 | 49.7 | 0.0 |
四氯乙烷 | 36.3 | 36.3 | 0.0 |
甲苯 | 28.4 | 26.1 | 2.3 |
磷酸三氯乙烯 | 40.9 | 39.2 | 1.7 |
a-溴邻苯二甲酸 | 44.4 | 44.4 | 0.0 |
二碘甲烷 | 50.8 | 50.8 | 0.0 |
Water (Rabel) @ 22°C 水 | 72.3 | 18.7 | 53.6 |
Water (Ström) @ 20°C 水 | 72.8 | 21.8 | 51.0 |
静态表面张力定义了物理上的“润湿性”,润湿性好–液体表面张力低,润湿性差–液体表面张力高;动态表面张力决定了液滴的大小和粘附力,在喷涂过程中,表面张力随时间的变化而变化。通常条件下,静态表面张力的变化并不依赖于浓度,但是动态表面张力随浓度变化的波动十分显著。动态表面张力可以运用于通过监控表面活性剂(清洗剂)的以下应用:
检查清洁液的表面活性剂含量(浓度)
清洗液的润湿能力
乳化液体的混合状态
通过下图,举例说明,在线清洗工艺中清洗液浓度(表面活性剂浓度)与动态表面张力值的关系。由此可见,通过监测清洗工艺过程的清洗液动态表面张力,可以有效的监控清洗液的功效,实现最经济的新鲜清洗剂原液补偿方案。
关于清洗液浓度的测定原理还有很多种类,在实际的应用中,各自有各自的特点,需要通过大量的实际数据积累,方能辨别优缺。除此之外,还有大量的通过折光仪(利用利用光线测试液体浓度的仪器)、超声波浓度仪(利用高频声波测试液体浓度的仪器)、比重浓度计(利用比重变化值测试液体浓度),等等。
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